氣氛型可調(diào)高溫加熱裝置
產(chǎn)品介紹
目前的高溫爐基本均采用硅鉬棒、硅碳棒作為加熱體，升溫速率慢、無(wú)法實(shí)現(xiàn)變溫環(huán)境模擬，且不同氣氛環(huán)境以共用。在研的“工業(yè)級(jí)與科研級(jí)特種紅外高溫爐”，具有快速升溫、變溫模擬、定制紅外加熱波段、紅外反射涂層保溫、氣氛可調(diào)（一臺(tái)設(shè)備同時(shí)實(shí)現(xiàn)大氣/真空/惰性氣體等）的優(yōu)點(diǎn)。
氣氛可調(diào)節(jié)近紅外高溫加熱裝置HCTD系列/HCHD系列可以進(jìn)行太陽(yáng)能電池/化合物半導(dǎo)體等的工藝開發(fā)和各種應(yīng)用程序的安裝。此系列是將紅外線反射爐和溫度控制器組合，并且還將石英的熱處理室緊湊地裝備起來(lái)的高速加熱冷卻裝置。也可以根據(jù)用戶的需進(jìn)行定制。
更多應(yīng)用
太陽(yáng)能電池基板的熱處理
在氣氛環(huán)境下的熱處理
各種材料的基礎(chǔ)研究氣氛退火熱處理
模擬器漸變熱處理
熱循環(huán)熱沖擊試驗(yàn)研究
半導(dǎo)體材料的燒結(jié)和工藝退火爐
特點(diǎn)
設(shè)定從高速加熱到低速加熱的廣泛條件
多步驟及循環(huán)加熱利用氣體冷卻機(jī)構(gòu)的高速氣體淬火
可以簡(jiǎn)單地從電腦上輸入溫度程序設(shè)定和外部信號(hào)
另外，可以在電腦上顯示加蒸中的溫度數(shù)據(jù)
技術(shù)參數(shù)
